TY - JOUR T1 - Quantum Interferometric Optical Lithography: Exploiting Entanglement to Beat the Diffraction Limit JO - Physical Review Letters PY - 2000/09/25 AU - Boto AN AU - Kok P AU - Abrams DS AU - Braunstein SL AU - Williams CP AU - Dowling JP ED - DO - DOI: 10.1103/physrevlett.85.2733 PB - American Physical Society (APS) VL - 85 IS - 13 SP - 2733 EP - 2736 Y2 - 2025/04/09 ER -