TY  - JOUR

T1  - Defect chemistry of Ti-doped antiferroelectric Bi[sub 0.85]Nd[sub 0.15]FeO[sub 3]

JO  - Applied Physics Letters

UR  - http://link.aip.org/link/?APL/100/182902/1

PY  - 2012/01/01

AU  - Reaney IM

AU  - MacLaren I

AU  - Wang L

AU  - Schaffer B

AU  - Craven A

AU  - Kalantari K

AU  - Sterianou I

AU  - Miao S

AU  - Karimi S

AU  - Sinclair DC

ED  - 

DO  - DOI: 10.1063/1.4705431

PB  - AIP

VL  - 100

IS  - 18

Y2  - 2024/10/24

ER  -