TY  - JOUR

T1  - Photo-deprotection patterning of self-assembled monolayers

JO  - J EXP NANOSCI

PY  - 2007/01/01

AU  - Critchley K

AU  - Ducker R

AU  - Bramble JP

AU  - Zhang L

AU  - Bushby RJ

AU  - Leggett GJ

AU  - Evans SD

ED  - 

DO  - DOI: 10.1080/17458080701675780

VL  - 2

IS  - 4

SP  - 278

EP  - 290

Y2  - 2024/10/23

ER  -